金属的化学机械抛光技术研究进展
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- 标准类型：机械资料
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- 更新时间：2016-01-26
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资料介绍
摘 要 介绍了近年来金属化学2机械抛光(CMP) 技术的一些研究进展。内容包括CMP 技术的实验方法进展
与抛光效果的表征,CMP 设备与消耗品的发展。分析了目前CMP 技术存在的问题,提出了可能解决问题的一
些建议。认为定量CMP 速率方程的建立是解决好终点在线检测的关键之一。
与抛光效果的表征,CMP 设备与消耗品的发展。分析了目前CMP 技术存在的问题,提出了可能解决问题的一
些建议。认为定量CMP 速率方程的建立是解决好终点在线检测的关键之一。